质谱网技术文章列表

摘要本文介绍了一种使用Agilent7500csICP-MS测定光伏级硅中存在的超痕量元素杂质的新型定量方法。硼（挥发性元素）和磷（受Si基干扰）对该行业尤其重要；因此，为了利用ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪分析这些元素，应特别注意样品预处理阶段。在验证样品前处理策略的过程中，所...

适用范围本文适用于气相色谱-质谱联用法测定生活饮用水中亚硝胺类化合物。仪器与试剂气质联用仪：PerkinElmerClaurs690-SQ8T色谱柱：Elite-624ms:30m*0.25mm*1.4μm固相萃取仪固相萃取柱：填料为椰壳炭（规格为80目～120目，填充量为1g，容量...

气相分解清洁、蚀刻氧化物生长和离子注入过程可能会在半导体器件中引入金属污染。痕量污染物也可能来自用于生产块状多晶硅的石英岩（砂）以及切割晶圆的纯单晶硅锭。石英岩中的主要污染元素是铁、铝、钙和钛，而在将石英岩转化为98%纯硅的碳热还原过程中可能引入其他元素。然后利用气相纯化和化学气相沉...

使用安捷伦屏蔽炬系统(STS)基本消除了可能存在的氩多原子离子干扰。与需要500–550W等离子体功率的传统冷等离子体条件不同，Agilent7500s能够在更高、更稳定的等离子体条件下运行，有效消除氩相关的多原子干扰。这主要是由于27.12MHz能产生温度更高的等离子体，更有效地促...

安捷伦ICP-MS系统（7900ICP-MS和8800串联四极杆ICP-MS(ICP-MS/MS)）有两种可选配置：标准配置适用于常规应用，“s”配置（选项#200）针对半导体应用进行了优化。“s”配置包括一个专门设计的“s透镜”以支持冷等离子体性能，对于许多高纯度化学品应用而言，这...

SEMI标准C30-1110包括高纯H2O2中允许的硫酸盐和磷酸盐最大浓度的性能指标，其限值为30ppb。该限值相当于元素浓度为10ppb的硫和磷，当前这两种污染物无法通过ICP-QMS进行测量。而近期发展起来的串联四极杆ICP-MS(ICP-MS/MS)能够获得更低的硫、磷检测限，...

前言智能手机、云计算、物联网(IoT)等技术，以及自动驾驶汽车的发展持续推动着对半导体产品的需求。为满足对集成电路(IC)更高性能的需求并提高器件产量，必须在制造过程中控制晶圆衬底和器件表面上的污染。鉴于器件的纳米级特征，迫切需要对金属纳米颗粒(NP)和溶解态金属进行监测。分析化学品...

​研究背景双酚（BPs）、有机磷阻燃剂（OPFRs）、溴代阻燃剂（BFRs）、邻苯二甲酸盐（PAEs）以及全氟和多氟烷基物质（PFASs）因其独特的理化特性，包括热稳定性和化学惰性，经常被纳入工业和家用产品中。这些污染物普遍存在于各种环境中，并经常在各种生物样本和材料中检测到。它们可...

​导读浙江省农产品质量安全协会于2024年10月28日发布了T/ZNZ291-2024《饲料中多种抗球虫类药物残留量的测定液相色谱-串联质谱法》团体标准。该标准适用于配合饲料、浓缩饲料、精料补充料和预混合饲料等4类饲料中，氨丙啉、常山酮、地克珠利、二硝托胺、癸氧喹酯、甲苄喹啉、甲基盐...

前言我国是抗生素生产和使用大国。作为人类和动物常用的药物，抗生素使用后被广泛排放到环境中，对生态系统构成潜在的威胁。因此，水中抗生素的研究成为环境保护领域的重要研究课题之一。目前水中抗生素的分析仍存在一些挑战和问题。例如，针对不同理化性质的抗生素，需要采用不同的测定方法；此外，水中抗...

前言紫外线吸收剂或稳定剂是指能吸收阳光或荧光源中紫外线部分，而本身结构不起变化的一类物质。它能将高能量的紫外线光能转换成热能或无破坏性的较长光波释放出来，从而保护添加有紫外线吸收剂的物质免遭紫外线破坏。主要用作塑料、橡胶、涂料、染料等的光稳定剂，防止它们长期暴露于阳光下时发生光分解。...

三重四极杆液质联用仪具有多项技术优势，这些优势使其在多个领域中得到广泛应用。以下是对三重四极杆液质联用仪技术优势的详细分析：1.高灵敏度离子源效率：采用先进的离子源技术，如超热安捷伦喷射流(AJS)离子源，提高了离子化效率和灵敏度。碰撞池设计：弯曲的圆维形碰撞池和可加热的双曲面四极杆...

引言AOACQuEChERS方法已经广泛应用于食品中农药残留的分析[1-2]。该方法应用乙腈提取，再由无水硫酸镁(MgSO4)脱去样品中的水，并以醋酸盐缓冲液促进分配。净化时，联合应用分散型固相萃取小柱与PSA（N-丙基乙二胺）小柱以除去样品基质中的有机酸，再用无水硫酸镁除去提取物中...

摘要使用液质联用(LC/MS)和气质联用(GC/MS)系统测定番茄和其它农产品中的农药残留以评估各种清洗方案的效果。我们在实验室对水和各种溶剂，超声和未超声的清洗操作进行了评估。总体而言，超声的效果依赖于清洗处理方法和农药的种类。另一个实验测定了被污染样品在试验工厂水槽中清洗前与清洗...