2026年4月22日至24日，第十九届中国科学仪器发展年会（ACCSI2026）在北京隆重举行。大会设置了十余场专业论坛，呈现了150余个精彩报告，全面展现了中国科学仪器领域的前沿创新与发展趋势-。在这场行业盛会上，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS） 成为备受关注的焦点之一。雪迪龙质谱产品经理董丹受邀发表专题报告《飞行时间二次离子质谱仪SurfaceSeer平台及半导体应用》，深入阐述了TOF-SIMS凭借高分辨率、高灵敏度等核心技术优势，在半导体等关键行业表面分析领域的应用场景与价值-。

三十余年技术积淀，SurfaceSeer TOF-SIMS国产化新征程

雪迪龙在TOF-SIMS表面分析技术领域的积累可追溯至1995年——英国Kore公司研发出SurfaceSeer TOF-SIMS第一台工程样机-。三十余年的持续深耕，让SurfaceSeer 飞行时间二次离子质谱仪能够从容应对各类微观表面分析挑战2026年，雪迪龙SurfaceSeer TOF-SIMS国产化机台正式下线，这一里程碑标志着我国在二次离子质谱表面分析仪器领域实现了从技术引进到自主可控的关键跨越，TOF-SIMS国产化进程的加速推进，正在有效降低国内企业与科研机构对进口仪器的依赖-。

半导体TOF-SIMS表面分析仪器：覆盖全链条检测需求

SurfaceSeer 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS） 的应用场景极为广泛，覆盖半导体、清洁能源、金属及光学器件、高分子材料、生物材料、电子材料、陶瓷、药物、生命科学等众多领域-。该表面分析质谱仪可实现无机/有机材料表面、界面、薄层、深度剖析以及生物医学研究-。

在半导体领域，半导体TOF-SIMS表面分析仪器的应用覆盖芯片制造全流程-：

薄膜成分与界面元素分布分析——精准表征薄膜材料成分及界面扩散行为 

先进制程多层膜元素互扩散监测——为先进制程工艺控制提供数据支撑  

芯片制造全流程金属沾污监控——保障芯片良率与可靠性  

光刻、刻蚀、清洗工艺残留监控——助力工艺优化与缺陷预防

 芯片失效分析与失效根源定位——为半导体失效分析TOF-SIMS提供关键手段

 TOF-SIMS可检测包括氢在内的全部元素及其同位素信息，分析深度通常小于1纳米-。在半导体掺杂剂与杂质的深度剖析、薄膜成份及杂质测定等场景中，TOF-SIMS半导体检测发挥着难以替代的作用-。

荣获“科学仪器优秀企业”，技术实力获行业认可

在ACCSI2026同期举办的仪器及检测3i奖颁奖盛典上，雪迪龙荣获 “2025年科学仪器优秀企业” 称号-。这一荣誉是对公司在飞行时间二次离子质谱仪等科学仪器领域技术实力与发展成就的高度认可，多款便携质谱产品同期展示，深化行业交流合作

ACCSI2026同期设置的特色展览中，雪迪龙展示了便携式气相色谱质谱联用仪、便携式飞行时间质谱仪、便携式傅里叶红外分析仪等多款最新成果，这些产品与SurfaceSeer 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS） 共同构成了雪迪龙从实验室精密分析到现场快速检测的产品矩阵，进一步深化了与行业伙伴的交流合作-。