SEMICON CHINA 2021，带你领略半导体全新解决方案

展会邀请|速来围观SEMICON CHINA 2021，赛默飞带你领略半导体全新解决方案

SEMICON CHINA

SEMICON CHINA 2021将于3月17日-19日在上海新guo际博览中心如期举行。作为中国的半导体行业盛事，囊括当今世界上半导体制造领域主要的设备及材料厂商，该展会将为业内人士提供高效交流、洞悉行业动态的有效平台。

在此，赛默飞世尔科技诚邀您莅临我们的展位（展位号：N5135），观摩我们的指尖实验室，与我们的技术专家共同探讨失效分析解决方案。我们将展示针对半导体制造商和电子行业的先分析流程，助您加快产品缺陷识别和研发进程，实现过程监控、良率提升，及时抢占市场！

赛默飞半导体杂质检测

quan方位解决方案

Dionex ICS-6000 HPIC高压离子色谱系统

广泛应用于离线和在线监控fab AMC，超纯水中阴、阳离子的监控以及高纯试剂（酸、碱和有机溶剂）中阴、阳离子分析。通过zhuan利的在线电解淋洗液发生器实现无需手动配置淋洗液，实现操作更简单，测试结果更稳定。

iCAP™ TQ ICP-MS

广泛应用于半导体行业金属离子痕量分析检测。标配4路碰撞反应气体，*消除多原子离子干扰；标配有机加氧装置，可直接分析半导体行业的有机试剂样品。开放的硬件设计，使得ICPMS操作更简单，维护更方便。

Element XR HR-ICP-MS

高分辨电感耦合等离子体质谱仪

高分辨率可达10000，可区分质量数小于0.01 amu的质谱干扰，真正实现无干扰分析，并减少复杂的样品制备和方法开发过程。应用：高纯试剂、高纯材料、高纯气体中痕量元素准确定量。

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Element GD Plus GD-MS

辉光放电质谱仪

高纯固体样品直接分析，*减少样品处理步骤，降低沾污风险。

热门应用：

赛默飞ELEMENT GD Plus GD-MS检测高纯Si中的Fe、Cu、Ti的深度分布

Fe、Cu、Ti（<10 ppbw）是对太阳能电池性能损害最大的金属杂质：

Fe、Cu在Si中会快速扩散，属于间隙杂质；

Ti扩散速度慢，会占据Si晶格的取代位点（类似B、P掺杂元素）。

赛默飞ELEMENT GD Plus GD-MS半导体检测高纯硅，高纯碳化硅，砷化镓等，杂质含量的检出限可达到ppb及ppb以下。高纯靶材中痕量杂质的检测及纯度鉴定，如铜，钛，铝，钼及ITO等靶材，可实现6N+纯度的鉴定。高纯石墨及石墨粉的杂质含量检测及纯度鉴定，可实现6N+纯度的鉴定。

提前注册享好礼

现在扫描下方二维码，或者点击阅读原文，在线填写注册表单，3月17日-19日莅临赛默飞展台，即可领取一个32G高速移动U盘。现场扫码登记，更有机会赢取无线充电器！