小王子分享ALD设备原理

2024年08月30日 19:27 来源：深圳市京都玉崎电子有限公司

小王子分享ALD设备原理

ALD设备配备有不锈钢或铝制成的真空室，由原料气体供给部分、排出原料气体的排气部分以及控制过程的控制单元组成。

充当前体的有机金属材料称为前体。首先，将前体引入真空室并吸附到基板的表面上。之后，将室抽真空一次以去除多余的前驱体，然后氧化和氮化以形成薄膜。

一个原子层在一个循环中形成，并且可以通过多次重复该循环来沉积薄膜。由于膜厚根据循环次数而变化，因此具有膜厚控制性高的特点。吹扫工艺在ALD成膜过程中也非常重要，因为腔室中残留的不同前驱体和氧化源会对薄膜质量产生负面影响。

为了提高沉积效率，可以加热基底或等离子体辅助基底。加热法称为热ALD，等离子体辅助法称为等离子体ALD。

关键词： ALD

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