珀金埃尔默 FT-IR自动分析系统助力精确检测硅晶圆中杂质

随着消费电子产品、汽车和太阳能发电领域对硅器件的需求激增，硅晶圆的生产和纯度把控显得至关重要。尤其是Float Zone（FZ）和Czochralski（CZ）两种主流生产工艺中，尽管FZ工艺能产出更高纯度的硅晶圆，但CZ工艺因其经济高效及优良的热应力特性被广泛应用。不过，CZ工艺生产的晶圆含有较多碳和氧杂质，这些杂质可能影响半导体器件性能，因此，有效测定并控制杂质水平成为业界关注焦点。

珀金埃尔默的Spectrum 3 FT-IR光谱仪结合MappIR晶圆支架和自动化软件，可实现从2英寸至12英寸硅晶圆的全面、自动化分析。系统能在透射或反射模式下工作，通过连续氮气吹扫消除大气干扰，采集高分辨率光谱数据，进而确定晶圆中的碳、氧杂质浓度。

综上所述，珀金埃尔默 FT-IR自动分析系统的引入极大地提升了硅晶圆中元素杂质的检测效率和准确性，不仅推动了半导体产业链的技术升级，也为高质量硅晶圆的大规模稳定生产奠定了坚实的基础。未来，这一创新技术将在半导体行业的持续进步中发挥重要作用。