手机版
化工仪器网手机版
化工仪器网小程序
官方微信
公众号：chem17
扫码关注视频号
上海伯东Atonarp 推出半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
上海伯东代理日本 Atonarp 推出半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
上海伯东日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 实现工艺过程控制, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.
Aston™ 特性
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具*集成
Atonarp Aston™ 技术参数
类型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型号 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
质量分离 | 四级杆 | |||||
真空系统 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
检测器 | FC /SEM | |||||
质量范围 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
检测限 | 0.1 PPM | |||||
工作温度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Aston™ 质谱分析仪 CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断
在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.
适用场景: 多个腔室连接到1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)
通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量!
若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士
上海伯东: 叶女士 中国台湾伯东: 王女士
现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士
上海伯东版权所有, 翻拷必究
免责声明
- 凡本网注明“来源：化工仪器网”的所有作品，均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-化工仪器网合法拥有版权或有权使用的作品，未经本网授权不得转载、摘编或利用其他方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的，应在授权范围内使用，并注明“来源：化工仪器网”。违反上述声明者，本网将追究其相关法律责任。
- 本网转载并注明自其他来源（非化工仪器网）的作品，目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时，必须保留本网注明的作品第一来源，并自负版权等法律责任。
- 如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起一周内与本网联系，否则视为放弃相关权利。
最新产品
采购中心
