动态二次离子质谱仪D-SIMS

　　动态二次离子质谱仪(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry，简称D-SIMS)是一种用于固体材料成分分析的高灵敏度表面分析技术。
 

　　ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计，是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。通过优化的二次离子收集光学系统 和超高真空设计，提供了薄膜结构检测中的掺杂组分和常见杂质所需的灵敏度。
 

　　工作原理：
 

　　动态二次离子质谱仪通过使用聚焦的高能量一次离子束(如O₂⁺、Cs⁺、Ar⁺等)轰击样品表面，使样品表面的原子或分子被溅射出来。在这个过程中，部分溅射出的粒子会带电，形成二次离子。这些二次离子被收集并传输到质谱仪中进行分析，通过质谱分析可以确定样品的化学组成和元素分布。