INFICON QMG 800分析质谱仪，50年RGA技术积淀再升级

我司卡洛斯莫近期推出INFICON新一代分析质谱仪QMG 800。作为QMG 700的继任产品，QMG 800延续了其作为分析过程监控领域市场残余气体分析仪（RGA）的定位，在保持行业测量速度与灵敏度的同时，针对客户的特定应用需求提供了更大的灵活性，为污染监测过程中的精确分析提供可靠保障。

产品概述：QMG 800分析质谱仪

QMG 800是INFICON在分析质谱领域五十余年技术积淀的最新成果。该产品专为分析过程监控设计，能够对真空环境中的残余气体成分进行定性和定量分析，检测限可达ppb级，帮助用户识别污染来源、监控工艺气氛变化。其设计目标是为各种分析质谱应用提供更强的性能和可靠性，确保各行业在纯度和质量控制方面达到高水平。

核心特性与技术优势

• 行业的测量速度与灵敏度：QMG 800在保持高灵敏度的同时，具备快速扫描能力，能够在短时间内完成多组分气体的分析，适用于需要实时监控工艺气氛变化的场景。

• 更大的应用灵活性：INFICON针对不同客户的独特需求，为QMG 800设计了灵活的配置选项，用户可根据具体应用要求调整系统参数和硬件配置，适配多样化的分析质谱任务。

• 数字先进性：产品采用技术提升性能和用户体验，数字化架构支持远程诊断、数据管理和系统集成，简化操作流程并提高工作效率。

• 五十余年技术积淀：INFICON在分析质谱领域拥有超过50年的先驱经验，QMG 800的推出为气体分析投资设定了新标准，用户可体验到经过长期验证的准确性和精确度。

• 污染监测的理想选择：QMG 800特别适用于污染监测过程中的精确和准确分析，能够帮助半导体、镀膜、冶金等行业确保工艺纯度和产品质量。

典型应用场景

• 半导体制造：在刻蚀、沉积等工艺中监控真空腔体的残余气体成分，及时发现污染源，保障晶圆良率。

• 真空镀膜：在PVD、CVD等镀膜工艺中监测腔体气氛，确保镀膜质量和工艺重复性。

• 冶金与热处理：在真空炉、热处理设备中分析炉内气氛，监控氧化、渗碳等过程的气体成分变化。

• 科研与实验室：在表面科学、催化研究等领域，用于分析真空系统中的气体组分和反应产物。

选型与配置建议

选型时需确认所需分析的气体种类、检测限要求及真空系统接口规格。QMG 800支持多种配置选项，用户可根据应用需求选择合适的质量范围、灵敏度和进样系统。数字化功能支持远程监控和数据管理，建议结合INFICON软件平台使用以充分发挥系统能力。安装时注意质谱仪的真空接口与主真空腔体的匹配，确保分析精度。

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